| 公開(公告)號 | CN101115484A |
| 公開(公告)日 | 2008.01.30 |
| 申請(專利)號 | CN200580037366.5 |
| 申請日期 | 2005.11.02 |
| 專利名稱 | 他達(dá)拉非晶形和其制備方法 |
| 主分類號 | A61K31/4985(2006.01)I |
| 分類號 | A61K31/4985(2006.01)I;C07D471/14(2006.01)I;A61P15/10(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2004.11.2 US 60/624,412;2005.1.7 US 60/642,216 |
| 申請(專利權(quán))人 | 特瓦制藥工業(yè)有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | S·維策爾;A·吉萬特;D·迪勒;B·克洛奇馬爾 |
| 地址 | 以色列佩塔提克瓦 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2005-11-02 PCT/US2005/039828 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2007.04.28 |
| 專利代理機構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 關(guān)立新;李連濤 |
| 國省代碼 | 以色列;IL |
| 主權(quán)項 | 一種制備他達(dá)拉非I型晶體的方法，包括將其從選自下述的溶劑結(jié)晶：2-甲氧基乙醇、無水乙醇、乙腈、1-丙醇、異丙醇、乙酸乙酯、甲苯和二甲亞砜(″DMSO″)、正丁醇、氯仿、四氫呋喃(″THF″)和其混合物。 |
| 摘要 | 本發(fā)明提供他達(dá)拉非晶形II、III、IV、VI、VII和VIII，以及用于制備這些晶形的方法。本發(fā)明還提供制備他達(dá)拉非I型和V型的方法。 |
| 國際公布 | 2006-05-11 WO2006/050458 英 |
