| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN1717393A |
| 公開(kāi)(公告)日 | 2006.01.04 |
| 申請(qǐng)(專利)號(hào) | CN200380104548.0 |
| 申請(qǐng)日期 | 2003.11.14 |
| 專利名稱 | 用作COX-1抑制劑的吡唑衍生物 |
| 主分類號(hào) | C07D231/12(2006.01)I |
| 分類號(hào) | C07D231/12(2006.01)I;C07D231/14(2006.01)I;C07D231/18(2006.01)I;C07D401/04(2006.01)I;C07D413/04(2006.01)I |
| 分案原申請(qǐng)?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.12.2 AU 2002-953019;2002.12.30 AU 2002-953602;2003.4.29 AU 2003-902015 |
| 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 藤澤藥品工業(yè)株式會(huì)社 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | 白井文幸;薊英范;茅切奈津子;奧村和央;中村克哉 |
| 地址 | 日本大阪府大阪市 |
| 頒證日 | |
| 國(guó)際申請(qǐng) | 2003-11-14 PCT/JP2003/014489 |
| 進(jìn)入國(guó)家日期 | 2005.05.30 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 龐立志 |
| 國(guó)省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項(xiàng) | 一種以下結(jié)構(gòu)式(I)化合物或其鹽：其中R1為氫或低級(jí)烷基；R2為任選被鹵素、羥基、低級(jí)烷氧基亞氨基或低級(jí)烷氧基取代的低級(jí)烷基；低級(jí)烯基；環(huán)烷基；氰基；低級(jí)烷�；画h(huán)烷基羰基；N，N-二(低級(jí))烷基氨基甲酰基；氨基甲�；�；N-低級(jí)烷氧基-N-低級(jí)烷基氨基甲酰基；氨基；二(低級(jí))烷基氨基；低級(jí)烷氧基羰基氨基；N，N-二(低級(jí))烷基氨基甲酰基氨基；N-(N，N-二(低級(jí))烷基氨基甲�；�)-N-低級(jí)烷基氨基；鹵素；羥基；羧基；低級(jí)烷氧基羰基；芳酰基；雜環(huán)基羰基；雜環(huán)基；低級(jí)烷基磺�；�；任選被低級(jí)烷氧基、N，N-二(低級(jí))烷基氨基甲酰基或鹵素取代的低級(jí)烷氧基；環(huán)烷氧基；低級(jí)烷硫基；或低級(jí)烷基亞磺�；籖3為任選被氨基、氨基甲�；被虻图�(jí)烷基磺�；被〈牡图�(jí)烷基；鹵素；氰基；羥基；低級(jí)烷酰氧基；低級(jí)亞烷基二氧基；任選被以下基團(tuán)取代的低級(jí)烷氧基：芳基、羥基、氰基、氨基、低級(jí)烷氧基羰基氨基、低級(jí)烷基磺酰基氨基或氨基甲�；被�；硝基；氨基；雜環(huán)基；低級(jí)烷硫基；低級(jí)烷基亞磺酰基；或低級(jí)烷基磺�；籖4為氫；氰基；任選被鄰苯二甲�；虻图�(jí)烷基取代的氨基；芳基；雜環(huán)基；低級(jí)烷氧基；羥基；低級(jí)烷基磺酰氧基；低級(jí)烷酰氧基；被三苯甲基氨基和低級(jí)烷氧基羰基、氨基和低級(jí)烷氧基羰基、氨基和羧基、氨基和氨基甲�；⒒蛘甙被土u基取代的低級(jí)烷基；N-低級(jí)烷氧基羰基-N-低級(jí)烷基氨基；任選被鹵素取代的低級(jí)烷�；�；羧基；低級(jí)烷基磺�；换腔�；低級(jí)烷基甲硅烷基氧基；低級(jí)烷氧基羰基；任選被低級(jí)烷基取代的氨磺�；�；任選被低級(jí)烷基取代的氨基甲�；�；低級(jí)烷硫基；低級(jí)烷基亞磺酰基；氨基甲�；趸涣螂寤�；或以下結(jié)構(gòu)式的基團(tuán)：R5-G-J-其中G為-CO-或-SO2-；J為-N-(R6)-(其中R6為氫或低級(jí)烷基)；且R5為任選被低級(jí)烷氧基羰基或低級(jí)烷基取代的氨基；任選被羥基、低級(jí)烷氧基羰基氨基、低級(jí)烷酰氧基、氨基或鹵素取代的低級(jí)烷基；低級(jí)烷氧基；氫；雜環(huán)基；或芳基；X為O、S、SO或SO2；Y為CH或N；Z為低級(jí)亞烷基或低級(jí)亞烯基；且m為0或1；前提條件是當(dāng)R4為氫時(shí)；則R3為被氨基、氨基甲�；被虻图�(jí)烷基磺�；被〈牡图�(jí)烷基；或被以下基團(tuán)取代的低級(jí)烷氧基：芳基、羥基、氰基、氨基、低級(jí)烷氧基羰基氨基、低級(jí)烷基磺酰基氨基或氨基甲�；被� |
| 摘要 | 可用作藥物的結(jié)構(gòu)式(I)化合物或其鹽，式(I)中R1為氫或低級(jí)烷基；R2為低級(jí)烷基等；R3為低級(jí)烷氧基等；R4為羥基等；X為O、S等；Y為CH或N；Z為低級(jí)亞烷基或低級(jí)亞烯基；且m為0或1。 |
| 國(guó)際公布 | 2004-06-17 WO2004/050632 英 |
