出版國(guó)家:USA
出版周期:不規(guī)則
影響因子:1.057
研究領(lǐng)域:藥物化學(xué)
5年影響因子:1.206
國(guó)外數(shù)據(jù)庫(kù)收錄:IM,1.057" />
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Arkivoc


Arkivoc
影響因子: 1.057
I S S N: 1551-7004
出 版 社: ARKAT USA INC
出 版 地: Florida
出版國(guó)家: USA
刊  期: 不規(guī)則
創(chuàng)刊時(shí)間:
語(yǔ)  種: 英文
審稿周期: 一般,3-8周
中科院分區(qū): 4
投稿命中率: 容易
國(guó)外數(shù)據(jù)庫(kù)收錄: IM
中國(guó)收錄文章數(shù):
5年影響因子: 1.206
研究領(lǐng)域: 藥物化學(xué)
官方鏈接: http://www.arkat-usa.org/arkivoc-journal/
投稿須知: http://www.arkat-usa.org/arkivoc-journal/

期刊介紹:

ARKAT-USA was established in the year 2000 through a personal donation and is duly registered as a charity. It is a not-for-profit entity designed to promote chemical research worldwide and hence benefit students, researchers, commercial or noncommercial enterprises, and humanity in general. The organization adheres to these aims firstly by publishing the totally free online journal, Arkivoc, that reports all aspects of organic chemical research and secondly by organizing the annual Florida Heterocyclic and Synthetic Conference which is held at Gainesville, Florida in March of each year and sponsored by IUPAC.
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